等离子体蚀刻
硅，氮化物和钛等离子蚀刻（ SF6， sf6/o2 ）
氧化物和氮氧化物等离子蚀刻 (C2F6, CHF3)
铝等离子蚀刻 (BCl3, Cl2, CH4, N2, CF4, O2)
阻尼和聚酰亚胺的蚀刻 (O2, CF4)
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