光刻
投影薄膜层曝光在2um尺寸
邻近的薄膜层曝光5um尺寸与晶圆的另一面对齐，其精度为+ / - 5um
到0.5um精度的光刻机 I-line Stepper (2008年7月可以到位)
Semefab概况
Semefab生产能力
MEMS要览
关于 - LIONAX
关于 - MEMS二分厂
展望semefab
semefab将参加今年6月10日至11日在伊利诺伊州的rosemont举行的传感器博览会。我们的展位是431
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